多晶硅過程氣體分析系統SXM-2100型
SXM-2100系統可連續監測工業硅提純的三氯氫硅氫還原工藝中氫氣的微氧含量和微水含量以及在尾氣管道保護氣氮氣的氧含量和微水含量，從而保證*后提煉超純硅的品質。
多晶硅過程氣體分析系統特點：
l 取樣系統為可插拔式探頭，方便更換濾芯
l 過濾器可過粉塵和硅粉，過濾精度為0.3μ
l 大屏幕現場就地顯示
l 系統留有分析儀標定口，無須拆卸分析儀
l 采用進口陶瓷阻抗式露點分析儀
技術參數：
l 系統部件：316L不銹鋼
l 模擬：4-20ma輸出
l 響應時間：T90<20S
l 防護等級：IP65
l 電源：24VDC
l 防爆標準：符合EEx ia IIC T4
l 工作溫度：-20oC to 60oC
l 微水分析儀：
測量范圍：-100 to +20oC
精度：+20~-60°C露點范圍內為±1 °C
-60~-100°C露點范圍內為±2 °C
工作壓力： 真空～40 MPa
計量單位：PPM(w),℃
防爆標準：非現場顯示型符合EEx ia IIC T4
現場顯示型符合Exd[ia] IIC T6
l 氧含量分析儀：
測量范圍：0/10/100PPM 1/10/25%
精度：<1%FS
計量單位：PPM(w),%
大氣壓力影響：大氣壓力影響：每變化1毫米汞柱讀數變化±0.13%
防爆標準： NEC/CEC Class Ⅰ,Ⅱ,Ⅲ,Division 1 GroupsA,B,C,D,E,F,G; CENELEC Eex ia Ⅱ c T4(60℃)BASEEFA Ceet.Nos. Ex96D2442 and Ex 96D2444